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技術の記録的な飛躍 サムスンが世界初となる3ナノメートルチップの生産開始

© 写真 : SAMSUNGサムスンが世界初となる3ナノメートルチップの生産開始
サムスンが世界初となる3ナノメートルチップの生産開始 - Sputnik 日本, 1920, 30.06.2022
韓国のサムスン電子は、GAA(Gate-All-Around)トランジスタ構造を適用した3ナノメートルのプロセス技術による半導体チップの大量生産を開始した。同社はこの技術を使った世界初の企業となった。同社のサイトで発表された。
半導体チップの新しいフォーマットは、前世代の「FinFET」の構造と比較して、エネルギー効率とデータ処理速度が高いという特徴があることが知られている。
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サムスン電子によれば、第1世代である3ナノメートルチップは、これまでの5ナノメートルチップとの比較で、消費電力が45%削減、性能が23%向上、また、面積が16%縮小される。
新技術の第一段階では、高性能コンピューター用のシステムチップの製造が行われ、その後、携帯電話用のチップの生産に適用されるという。
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